随着近年来技术革新的进展及加速，对于实用新型专利申请来讲,申请后早期开始实施的越来越多,再加上产品的生命周期日趋短缩,对于这样的技术早期给予权利保护的要求也变得日益显著。
为适应早期给予权利保护的要求,不进行新规性(相当于中国专利法的新颖性)、进步性(相当于中国专利法的创造性)等的实质审查、采用只要满足登记所必要的一定条件(称为基础条件)就可以授予权利的早期登记制度。(1994年1月1日起施行)。
(1)出愿(申请)
专利申请可以不必有附图，但是实用新型专利申请必须有附图。
申请时必须向特许厅提交法令规定的文件。
申请时须缴纳从第一年到第三年的登记费。
(2)审查
实用新型的审查不存在相同于专利申请一样的审查请求制度。
不需经过实质审查(新规性、进步性等)，加上以前的方式审查,还审查以下列举的基础条件。
与物品的形状、构造或组合相关的技术方案
不违反公共秩序和善良风俗
满足权利要求的记载样式及申请的单一性
说明书或附图中记载了必要的事项，且记载内容没有明显的不明确之处
如果方式上的条件或者基础条件未满足，将会被命令进行补正。对于补正没有答复时申请手续将被驳回。